台积电6纳米制程将于明年一季度进入试产

10月8日消息，台湾地区半导体制造商台积电日前透露，该公司6纳米制程技术将于明年第一季度进入试产，明年年底前量产。

台积电称，其极紫外光（EUV）微影技术之7纳米强效版(N7 )制程已协助客户产品大量进入市场。导入EUV微影技术的N7 奠基于该公司成功的7纳米制程之上，为6纳米和更先进制程奠定良好基础。

N7 的量产速度为史上量产速度最快的制程之一，于2019年第二季开始量产，在7纳米制程技术（N7）量产超过一年时间的情况下，N7 良率与N7已相当接近。

N7 同时提供了整体效能的提升，N7 的逻辑密度比N7提高了15%至20%，并同时降低了功耗。台积电快速布建产能以满足多个客户对于N7 的需求。

台积电表示，EUV微影技术使公司能够持续推动晶片微缩，因EUV的较短波长能够更完美地解析先进制程的设计。台积电的EUV设备已达成熟生产的实力，EUV设备机台也达到大量生产的目标，在日常运作的输出功率都大于250瓦。

台积电称，N7 的成功经验是未来先进制程技术的基石。台积电6纳米制程技术（N6）将于2020年第一季进入试产，并于年底前进入量产。随著EUV微影技术的进一步应用，N6的逻辑密度将比N7提高18％，而N6凭借与N7完全相容的设计法则，也可大幅缩短客户产品上市的时间。

编辑：芯智讯-林子